网站首页
IC库存
IC展台
电子资讯
技术资料
PDF文档
我的博客
IC72论坛
ic72 logo
资料首页最新产品 技术参数 电路图 设计应用 解决方案 代理商查询 IC替换 IC厂商 电子辞典
关键字: 技术文章 PDF资料 IC价格 电路图 代理商查询 IC替换 IC厂商 电子辞典

接触式/接近式光刻机

  对于接触式光刻机,曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上,其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1 gm的特征尺寸,常用的光源分辨率为0.5 gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形。在衬底上涂上光刻胶,并被安装到一个由手动控制的台子上,台子可以进行X、y方向及旋转的定位控制。掩模版和衬底晶片需要通过分立视场的显微镜同时观察,这样操作者用手动控制定位台子就能把掩模版图形和衬底晶片上的图形对准了。经过紫外光曝光,光线通过掩模版透明的部分,图形就转移到了光刻胶上。接触式光刻机的主要缺点是依赖于人操作,由于涂覆光刻胶的圆片与掩模的接触会产生缺陷,每一次接触过程,会在圆片和掩模上都造成一定的缺陷。因此,接触式光刻机一般用于能容忍较高缺陷水平的器件研究和其他应用方面。

热门搜索:135101-04-12.00 AC3MMR 908-NM24100 MS3470W10-6S MS3112E8-4S 97-3055-18-10 AC3FI L77-DB25S-U 112599 FCE17-E09PM-290 MUSB-2K15-015BP 242112RP 242130RP 31-30220-1 LCC17-A3W3SM-2N0 908-41400 D38999/26WE26SN MS3116F16-26P T 3434 501 RJFTV6MG 122470 FCC17-A15SE-410 MRJ548001 C016 20K003 100 10 31-6055
COPYRIGHT:(1998-2010) IC72 达普IC芯片交易网
客户服务:service@IC72.com 库存上载:IC72@IC72.com
(北京)联系方式: 在线QQ咨询:点击这里给我发消息 联系电话:010-82614113 传真:010-82614123
京ICP备 09027246号-1 京公网安备 11010802018497 号