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IDM继续主导GaN时代 “国产化”的最大软肋?

 尽管产能和成本问题还悬而未决,但GaN如今已然引发了充电市场的迭代热潮。接下来,随着越来越多本土厂商的加入,这场战役的火药味也愈发浓郁。但值得一提的是,在第一代和第二代半导体市场均未能抢得先机的本土企业,又将如何在GaN这类第三代半导体市场争霸战中拔得头筹,也成为开启GaN国产化之门的关键密钥。

不过,相比国外大厂而言,国内在这个模式上还需要有所突破,这背后必然少不了各类整合性团队的共同协作,有业内人士分析到:“其实现阶段,国内在GaN领域有几个比较大的问题,第一个是产业化能力的问题,如果我们深入去看器件的设计固然重要,但如果脱离了第三代半导体的材料外延和特性,设计公司如果未掌握外延的技术,或者没有掌握整个驱动甚至是封装测试方面的技术,仅仅只是依靠单一的设计,公司其实是很难做大的。在中国,这类整合性的公司还是比较稀缺的。”

对此,查莹杰也颇为赞同,他表示:“其实在Fab和外延这块,实际上目前能够在GaN这类功率半导体领域完全走上大批量量产的并不多,可能也仅有TSMC和XFab在达拉斯的6寸厂,而且目前主要的产能都聚焦在6英寸,可供选择的也不多。不过,目前我们也能看到国内有一些厂商也在走8英寸的路线,如果8英寸的产品后续能够非常成功的被开发出来,而且在良率上可以有很明显的提升的话,实际上我们在外延这部分也就能占据先导的地位,当然这还是需要时间的积累和沉淀。”

另外,应用生态上,除了控制器本身的开发以外,最深层的内容其实还是在拓扑结构的设计上,查莹杰进一步解释到:“实际上,国内目前也有很多务实的高校和实验室,在不断推陈出新的创新架构。另外,在控制器的部分,比如国内的瑞芯微和矽力杰等,都是在电源领域有很多耕耘和积累的半导体厂商,也都在慢慢向TI和ST等企业靠拢。但在GaN的设计环节,我们认为也是国内非常薄弱的环节,直接的体现是纳微半导体虽然注册在美国,但实际上我们主流的技术团队都是中国人,如今也正加速实现本土化。但我们在本土化之路上面临的最大问题就是人才的匮乏,很难招到GaN设计方面的人才,非常稀少。由此可见,我们在这些领域的短板其实还是非常明显的。”北京耐威科技股份有限公司董事长杨云春表示:“在GaN这类第三代半导体上,我们国家的起步实际上并不晚,比如像微波和功率器件等应用领域,很多企业也都在往里进军。不过,其中的代工和产能的确是有门槛,所以真正要做快速迭代的话最好还是要走IDM模式。去年,我们和青岛西海岸也签署了协议开始投资GaN外延材料项目的生产制造,外延片我们采用了国际比较先进的设备,目前良率超过80%-90%。而从功率和微波这两大市场来看,国内的相关企业其实还是有优势的,相信在资本力量和相关政策的支持下,国内在GaN这块能够很快的赶上来。”其实,从过往的历史中可以看到,无论是第一代还是第二代半导体器件,IDM均为最优化的模式。因此第三代半导体领域,IDM模式将继续发光发热,位居主导。

但尽管如此,李志杰对GaN在充电市场“国产化”的未来发展仍抱持乐观态度,他表示:“这个领域当然是有差距,但从我们了解的情况看,国内很多Fab都开始在做GaN的方案。并且国内又有很多像小米这样的产业资本和产业投资,来通过资本进行推动。所以,未来我们应该是可以培育出GaN这样的相关产业链,从而让它快速的成熟起来。”

总之,如今的GaN已经点燃了手机快充市场的“火炬”,蓄势待发。尽管目前产能和成本仍悬而未决,业内仍然需要时间和技术的积淀来带动GaN打破传统硅基市场的顽固堡垒。但编者相信,随着接下来第一波5G换机大潮的带动,GaN有很大几率能够成功“上位”,攫取掉部分传统硅基方案的市场份额。而在这一市场“风口”之下,本土企业虽整体实力偏弱但却稳中有机。毕竟,如今不少国内企业正在加速量产8寸GaN产品,待后续良率以及产能达到预期标准之后,将极大的推进GaN晶圆的“国产化”进程,加之在国内一众智能手机大厂及资本市场的鼎力助推下,本土GaN器件在智能手机快充市场大规模放量之日必将很快到来。届时,半导体“国产化”的史书上,又将添上浓墨重彩的一笔。

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